Dinickelsilicid

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Kristallstruktur
Kristallstruktur von Dinickelsilicid
_ Ni 0 _ Si
Metall-Metallbindungen nicht dargestellt
Allgemeines
NameDinickelsilicid
Andere Namen

Nickelsilicid (mehrdeutig)

VerhältnisformelNi2Si
Kurzbeschreibung

grauer bis metallisch glänzender geruchloser Feststoff[1]

Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer12059-14-2
EG-Nummer235-033-1
ECHA-InfoCard100.031.836
PubChem14767304
WikidataQ18212011
Eigenschaften
Molare Masse145,46 g·mol−1
Aggregatzustand

fest[2]

Dichte

7,2 g·cm−3[1]

Schmelzpunkt

1309 °C[1]

Löslichkeit

praktisch unlöslich in Wasser[1]

Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung aus Verordnung (EG) Nr. 1272/2008 (CLP),[3] ggf. erweitert[2]
GefahrensymbolGefahrensymbolGefahrensymbol

Gefahr

H- und P-SätzeH: 350i​‐​372​‐​317​‐​410
P: 260​‐​261​‐​280​‐​363​‐​405​‐​501[1]
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet.
Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0 °C, 1000 hPa).

Dinickelsilicid ist eine anorganische chemische Verbindung des Nickels aus der Gruppe der Silicide.

Gewinnung und Darstellung

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Dinickelsilicid kann durch Reaktion von Nickel mit Silicium gewonnen werden.[4]

Dinickelsilicid ist ein grauer bis metallisch glänzender geruchloser Feststoff, der praktisch unlöslich in Wasser ist.[1] Er besitzt eine orthorhombische Kristallstruktur mit der Raumgruppe Pbnm (Raumgruppen-Nr. 62, Stellung 3)Vorlage:Raumgruppe/62.3 und den Gitterparametern a = 7,06 Å, b = 4,99 Å und c = 3,72 Å. Die Kristallstruktur enthält zwei kristallographisch verschiedene Nickel-Atome. Beide werden von fünf Silicium-Atomen koordiniert, eines in Gestalt einer trigonalen Bipyramide, eines in der einer tetragonalen Pyramide.[5] Es existiert jedoch noch eine Hochtemperaturmodifikation mit hexagonaler Kristallstruktur.[6] Die Verbindung hat einen Widerstand von etwa 24 bis 30 µΩ/cm.[7]

Nickelsilicide wurden weithin als Kontaktmaterialien in mikroelektronischen Chips untersucht. Nickelsilicid/Silicium-Nanodrähte-Heterostrukturen können zur Herstellung von Feldeffekttransistoren verwendet werden.[1]

Verwandte Verbindungen

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Neben Dinickelsilicid sind mit Ni3Si, Ni31Si12, Ni3Si2, Nickelmonosilicid (NiSi) und Nickeldisilicid (NiSi2) mindestens fünf weitere bei Raumtemperatur stabile Nickelsilicide bekannt. Das Phasendiagramm zeigt insgesamt elf Nickelsilicide.[8][7]

Einzelnachweise

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